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K-PEEL

RESPECT
K6706003 | 50ml

Peeling químico de concentração suave e pH 3.5 (respeitoso com a pele), que combina alfa-hidroxiácidos, ácido dicarboxílico e ingredientes cosméticos, adequado para todos os tipos de pele e fototipos, incluindo para pele com pouca tolerância aos peelings químicos de maior concentração e com características cosmecêuticas mais agressivas. 

Não é fotosensibilizante, podendo ser utilizado durante todo o ano. Esfolia suavemente, eliminando as células na fase do desprendimento. Promove a renovação celular, minimizando imperfeições, como poros dilatados, e previne o aparecimento de comedões.

RESULTADO

A pele apresenta-se mais luminosa, fresca e purificada, com uma textura cutânea mais uniforme e um toque mais suave.

O QUE CONTÉM? 

  • ÁCIDO MANDÉLICO
  • ÁCIDO LÁCTICO
  • ÁCIDO MÁLICO
  • ÁCIDO CÍTRICO
  • ÁCIDO SUCCÍNICO
  • AZELOGLICINA®

  • Peeling químico de base aquosa e textura leve, que não deixa sensação de repuxamento nem a pele pegajosa. 
  • Requer limpar com água e ação equilibrante do pH cutâneo com a LOÇÃO POST-PEELING. 
  • Deixa uma agradável sensação de limpeza profunda e suavidade na pele. 
  • Não causa ardor, nem proporciona sensação de desconforto durante o tempo de exposição. 
  • Sem perfume.

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